Tantalsprutende mål er en type materiale som brukes i sputterprosessen for å avsette tynne filmer av tantal på underlag. Sputteringsprosessen innebærer å bombardere et målmateriale med høyenergiioner, som skyter ut atomer fra overflaten av målet. Disse utkastede atomene avsettes deretter på underlaget og danner en tynn film.

Tantalsputteringsmål brukes i ulike industrielle applikasjoner for avsetning av tynne filmer av tantal på underlag. De primære applikasjonene inkluderer:

1. Halvlederindustri: Det er mye brukt i halvlederindustrien for avsetning av tynne filmer av tantal på silisiumskiver. Disse filmene brukes som diffusjonsbarrierer, samt til fremstilling av kondensatorer og andre elektroniske komponenter.

2. Harde belegg: Det brukes til å avsette harde belegg på skjæreverktøy, maskindeler og andre overflater som krever utmerket slitestyrke.

3. Dekorative belegg: Det brukes i produksjon av dekorative belegg på glass, keramikk og andre materialer. Disse beleggene gir et eksklusivt utseende og forbedrer overflatens ripebestandighet.

4. Solceller: Det brukes til å deponere tynne filmer av tantal på solceller. Disse filmene forbedrer effektiviteten til cellene og gir en beskyttende barriere mot miljøfaktorer.

5. Medisinsk utstyr: Det brukes til å produsere biokompatible belegg på medisinske implantater, som pacemakere, hofteproteser og tannimplantater. Disse beleggene forbedrer holdbarheten og biokompatibiliteten til implantatene.

Tantalmål er laget av tantal med høy renhet og er vanligvis tilgjengelige i forskjellige former og størrelser, inkludert sylindriske, rektangulære og sirkulære. Størrelsen og formen på målet avhenger av det spesifikke sputtersystemet som brukes og størrelsen på substratet som belegges.

Samlet sett er tantalforstøvningsmål en kritisk komponent i mange bransjer, der tynnfilmavsetning er nødvendig, og høyytelsesegenskapene til tantal er nødvendig.